Entegris 過濾器
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QuickChange? NX 過濾器
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QuickChange? NX 過濾器
采用 28 nm 或更高技術(shù)節(jié)點,對水性、排氣性、腐蝕性酸堿化學品進行高級過濾??蓪崿F(xiàn)高流速和保留性能。 -
應用
QuickChange? NX 過濾器應用
- 行業(yè):半導體、平板顯示器、數(shù)據(jù)存儲、LED
- 工藝:濕法蝕刻和清洗、磁頭 - 濕法蝕刻和清洗、批量化學品輸送
- 化學:強酸、強堿、溶劑
- 安裝點:工具點、分配點、散裝
產(chǎn)品規(guī)格
材料: | 膜 | 預濕、不脫濕 PTFE??? | ? | ? | |||
? | 支持 | 肺動脈高壓 | ? | ? | ? | ? | ? |
? | 對于濾芯 | ? | ? | ? | ? | ? | |
? | 墨盒連接 | 代碼 0 (AS568-222) O 型圈??? | ? | ? | |||
? | 墨盒 O 形圈 | E-FKM、E-ETP、Chemraz??或 Kalrez?????? | ? | ||||
? | 鑰匙(僅限帶有 Chemlock??鑰匙的鑰匙盒) | 肺動脈高壓 | ? | ? | ? | ? | ? |
? | 對于一次性過濾器 | ? | ? | ? | ? | ? | |
? | 殼 | 肺動脈高壓 | ? | ? | ? | ? | ? |
保留評級: | 15 納米(NXT、NXE、NXF、NXG) 30 納米、0.05 μm、0.1 μm、0.2 μm(NXT、NXX、NXM、NXE) |
? | ? | ? | |||
膜面積: | ? | NXT? | 尼克?????? | NXM???????? | 恩西埃???????? | NXM | 恩智浦半導體 |
? | 30納米、0.05微米、0.1微米、0.2微米 | ? | ? | ? | ? | ? | |
? | 4” | – | 0.5 平方米( 5.4平方英尺) |
– | – | – | – |
? | 10 英寸 | 0.9 平方米( 9.7平方英尺) |
1.3平方米( 14平方英尺) |
1.8 平方米( 19.4平方英尺) |
2.2 平方米( 23.7平方英尺) |
– | – |
? | 20 英寸 | 1.8 平方米( 19.4平方英尺) |
2.6 平方米( 28平方英尺) |
3.6 平方米( 38.8平方英尺) |
4.4 平方米( 47.4平方英尺) |
– | – |
? | 30 英寸 | 2.7 平方米( 29平方英尺) |
– | – | – | – | – |
? | 15納米 | ? | ? | ? | ? | ? | ? |
? | 10 英寸 | 0.9 平方米( 9.7平方英尺) |
_ | _ | 2平方米 (21.5 平方英尺) |
2.4 平方米( 25.8 平方英尺) |
3 平方米(?32.3平方英尺) |
? | 20 英寸 | 1.8 平方米( 19.4平方英尺) |
– | – | 4 平方米( 43.1平方英尺) |
4.8 平方米( 51.7平方英尺) |
6 平方米(?64.6平方英尺) |
最高工作條件: | 最大工作壓力 | 0.58 MPa (5.8 bar, 84 psi) @ 25°C (77°F) 0.097 MPa (0.97 bar, 14 psi) @ 200°C (392°F) |
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? | 最大正向壓差 | 0.44 MPa (4.4 bar, 64 psi) @ 25°C (77°F) 0.05 MPa (0.52 bar, 7.5 psi) @ 200°C (392°F) |
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? | 最大反向壓力 | 0.34 兆帕(3.45 巴,50 磅/平方英寸)@ 25°C (77°F) | |||||
? | 最高工作溫度 | 200°C(392°F) | |||||
金屬可萃取物: | 標準和 UCM-16:針對 23 種金屬進行測試 | ? | ? | ? | |||
其他可萃取物: | 標準和 UCM-16:TOC、Cl、F | ? | ? | ? | ? | ? |
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